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關鍵詞：聚晶立方氮化硼復合片 氯化鈉含量 壓力場 性能 

摘要：通過改變旁熱式組裝中氯化鈉總含量(0%、+2%、+3%和+4%),在合成溫度為1350℃~1400℃、壓力5~5.5GPa和燒結時間20~25min條件下,制成聚晶立方氮化硼復合片,以期達到均勻壓力場、改善聚晶層平整度和提高性能穩定性的目的。與傳統組裝相比,隨著體系中氯化鈉用量的增加,靠近博士帽堵頭側復合片壓力梯度隨之減小。當氯化鈉用量增至傳統鹽含量(4%)時,所制聚晶立方氮化硼復合片其平整度和性能穩定性達到最佳,外側復合片中心與邊緣區域聚晶層厚度差可縮小50%以上,且其硬度及切削性能偏差不高于8%。

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