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基于橢偏角成像的識別偽裝目標(biāo)方法

曹曉煒; 曾鋒; 張品; 顓孫曉博 中南大學(xué)軟件學(xué)院; 湖南長沙410083; 西部戰(zhàn)區(qū)陸軍保障部; 甘肅蘭州730000; 陸軍工程大學(xué)野戰(zhàn)工程學(xué)院; 江蘇南京210014

關(guān)鍵詞:目標(biāo)識別 橢偏角 復(fù)折射率 入射角 

摘要:偏振度的測量對反射輻射強度有一定的要求,反射輻射強度較低時,不同材料之間偏振度差別不明顯,且線偏振度受探測角和表面粗糙度影響較大,以相同探測角探測粗糙度類似的目標(biāo)時難以對目標(biāo)從偏振度上區(qū)分。通過分析影響電磁波在物質(zhì)表面反射輻射的振幅與相位因素,研究了其偏振特性,提出在線偏振光入射條件下,通過對反射輻射橢偏角成像,直接或間接輔助識別偽裝目標(biāo)的方法。建立橢偏角與復(fù)折射率、入射角之間的函數(shù)模型,并通過軟件仿真驗證模型的正確性。文章為基于探測偏振信息進行偽裝識別的方法提供一種新思路。

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